快速规格
Lumerical InterConnect包括一系列广泛的功能和工作流程，其中包含广泛的原始元素库以及铸造特定的PDK元素。
解决无法解决的问题
互连是ANSYS Lumerical的光子集成电路模拟器
InterConnect，Lumerical的光子集成电路模拟器，验证多模，双向和多通道图片。在我们的层次示意图编辑器中创建项目，您可以使用我们广泛的原始元素库以及特定于铸造的PDK元素在时间或频域中执行分析。
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分层示意图编辑器
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PIC元素库
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EDA互操作性
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统计分析
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分层设计 -
瞬态块分析 -
混合信号表示 -
导入紧凑库型号
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gui和灯具脚本 -
瞬态样品模型模拟器 -
电子光子共模拟 -
行驶波激光模型
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频域分析 -
多模型和多通道支持 -
参数扫描 -
统计分析
什么是新的
2021 R2版本可改善ANSYS Lumerical Interonnect，以更好地支持PDK开发：
从Tanner S-Edit导入的NetList
ANSYS FEEM现在包括对对角线各向异性的支持。
试金石格式
从ANSYS Lumerical FDTD和ANSYS Lumerical Mode Compontions模拟中以试金石格式导出S-参数，然后导入到Lumerical InterConnect中。
资源
使用ANSYS Lumerical InterConnect验证多模，双向和多通道图片
体验具有光子集成电路与Lumerical Interonnect的光子集成电路模拟的深度和工作流程。可用的工作流程加速了设计时间并改善了制造成果。InterConnect包含一个广泛的被动和主动构建块的库，并支持许多具有校准紧凑型模型的Foundry PDK。
主要特征
在时间和频域中进行分析，执行光子整合电路模拟。
- 图片模拟和设计
- EDA和PDA互操作性
- 统计分析
- PIC元素库
- CML开发和分配
借助其层次示意图编辑器，使用互连设计和模拟光子集成电路。互连包括频域分析，瞬态样品模式模拟和瞬态块模式模拟。它包括复杂的可视化和数据分析工具，并支持参数扫描和设计优化。
使用熟悉的EDA设计工具和工作流来模拟和优化设计，以加速设计时间并提高可靠性。
执行角分析以建模过程变化对电路性能的影响。执行Monte Carlo分析以评估电路性能和收益率
InterConnect包含一个广泛的被动和主动光电构建块的标准库，以及启用模拟和分析结果的补充元素。它包括两个库扩展名：
- 激光建模的元素库扩展
- 高级系统建模的元素库扩展名，包括复杂的光纤，放大器，FEC编码和均衡模型
InterConnect以及ANSYS Lumerical的设备级工具提供了一个基础架构，该基础架构支持紧凑型模型库（CMLS）的开发和分布，以进行PIC仿真和设计。通常，使用Lumerical的设备级光子学工具的实验测量数据和准确的组件级仿真结果的组合建立了CML。
实例探究
应用程序库
参考手册
ANSYS软件可访问
对于ANSYS来说，所有用户（包括残疾人）都可以访问我们的产品至关重要。因此，我们努力根据美国访问委员会（第508节），Web内容可访问性指南（WCAG）以及自愿产品可访问性模板（VPAT）的当前格式遵循可访问性要求。
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