快速的规格
Lumerical INTERCONNECT包括一组广泛的功能和工作流程,具有广泛的原始元素库,以及铸造特定的PDK元素。
INTERCONNECT是Ansys Lumerical公司的光子集成电路模拟器
INTERCONNECT是Lumerical公司的光子集成电路模拟器,用于验证多模、双向和多通道的PICs。在我们的层次示意图编辑器中创建您的项目,您可以使用我们丰富的原始元素库,以及铸造特定的PDK元素,来执行时域或频域分析。
Lumerical INTERCONNECT包括一组广泛的功能和工作流程,具有广泛的原始元素库,以及铸造特定的PDK元素。
2021年R2版本提供了Ansys Lumerical INTERCONNECT的改进,以更好地支持PDK开发:
Ansys FEEM现在包括对角各向异性的支持。
从Ansys Lumerical FDTD和Ansys Lumerical MODE组件仿真中导出Touchstone格式的s参数,然后导入到Lumerical INTERCONNECT中。
使用Lumerical INTERCONNECT深入了解光子集成电路仿真的特点和工作流程。可用的工作流程可以加快设计时间并改善制造结果。INTERCONNECT包含大量的无源和有源模块库,并支持许多具有校准紧凑模型的代工PDKs。
在时域和频域进行光子集成电路模拟和分析。
利用INTERCONNECT的分层原理图编辑器,设计和模拟光子集成电路。INTERCONNECT包括频域分析、瞬态采样模式仿真和瞬态块模式仿真。它包括复杂的可视化和数据分析工具,支持参数扫描和设计优化。
使用熟悉的EDA设计工具和工作流程模拟和优化您的设计,以加快设计时间并提高可靠性。
进行角分析以模拟工艺变化对电路性能的影响。执行蒙特卡罗分析,根据工艺变化评估电路性能和良率
INTERCONNECT包含一个广泛的标准无源和有源光电模块库,以及辅助元件,使模拟和分析结果。它包括两个库扩展:
INTERCONNECT与Ansys Lumerical的设备级工具一起,提供了一个基础设施,支持PIC仿真和设计的紧凑模型库(cml)的开发和分发。通常,CML是建立在实验测量数据和精确的组件级模拟结果的结合上,使用Lumerical的器件级光子学工具。
这是至关重要的Ansys,所有用户,包括那些残疾,可以访问我们的产品。因此,我们努力遵循基于美国访问委员会(章节508)、Web内容易访问性指南(WCAG)和自愿产品易访问性模板(VPAT)的当前格式的易访问性要求。