光子学的商业价值
Ansys Lumerical的综合光子学模拟和分析工具套件提供组件级和系统级模拟，以优化性能，最小化物理原型成本，缩短上市时间。增强的设计流程使设计人员能够根据领先的铸造工艺校准紧凑的模型。
Ansys光子学
高水平的特性
Ansys Lumerical是一个完整的photonics仿真软件解决方案，可以实现photonics组件、电路和系统的设计。设备和系统级工具无缝结合，允许设计师建模相互作用的光学、电气和热效应。产品之间灵活的互操作性使各种工作流程得以实现，将设备多物理和光子电路模拟与第三方设计自动化和生产力工具相结合。基于python的自动化和用于构建和使用紧凑模型的流程支持行业领先的铸造厂。
设备级的工具
使用多物理风格的模拟功能和工作流程，在物理级别建模光学、电气和热效应。
系统级工具
模拟和优化光子集成电路的性能，并生成紧凑的模型库。
光学仿真
Ansys Lumerical的2022 R2版本引入了一系列强大的新功能，以扩展其产品家族的可用性、准确性、性能和功能。
- 光学求解核心和高性能计算性能的进展
- 在Lumerical光学求解器中建模各种亚波长结构的新工作流程，然后在Zemax中优化宏观尺度设计，以查看它对人类使用的外观Speos
- 改进了具有多量子阱的EAMs和led的模拟工作流程，以及单光子雪崩光电探测器
- 通过在我们的过程感知自定义组件设计流程和EPDA流程中使用新功能，简化光子器件和电路的设计
- 进步,互连和生成的光子Verilog-A模型CML编译器．
- 用于模拟光子集成电路中量子行为的新型qINTERCONNECT求解器
详情请参阅我们的发布说明．
在线研讨会
光电产品
MODE有一切你需要得到你的波导和耦合器设计的最大限度。
- 先进的共形网格，模拟精度高
- 大平面波导的变分FDTD传播(变分FDTD求解器)
- 大传播长度的本征模分析(EME求解器)
- 有限差分特征模分析(FDE求解器)
CHARGE为设计人员提供了半导体器件中全面电荷传输模拟的正确工具。
- 有限元泊松/漂移扩散求解器
- 稳态、小信号交流和暂态仿真
- 等温、非等温和电热模拟
- 综合半导体材料模型
- 自动有限元网格生成
基于有限元方法，HEAT为设计人员提供了全面的热建模能力。
- 稳态和瞬态模拟
- 综合热材料模型
- 研究导电、对流和辐射效应
- 由导电产生的焦耳加热
- 基于导入热剖面的自动网格细化
DGTD利用有限元麦克斯韦求解器解决了最具挑战性的纳米光子模拟问题。
- 物体保形有限元网格，无阶梯
- 高阶网格多项式的精确控制
- 远场和光栅投影
- 高斯矢量光束
STACK是薄膜多层叠片快速分析的理想解决方案。
- 理想的薄膜原型应用
- 平面波和偶极子照明功能
- 捕捉干扰和微腔效应
- 导出表面模型，包括双向散射分布函数(BSDF)和衍射光栅，到Ansys Speos进行人体感知分析
支持经过验证的、自动化的、跨模拟器的光子紧凑模型库(CML)生成。
- cml支持多个EDPA工作流
- 来自单一数据源的IP保护INTERCONNECT和Verilog-A模型
- 用于频率和时域模拟的高质量紧凑模型
- 生成支持统计的库
当与业界领先的EDA模拟器一起使用时，可实现多模式、多通道和双向光子电路建模。
- 促进电子-光子集成系统的设计和实现
- 双向光端口
- 可扩展的光通道和模式通过CML编译器模型生成
- 支持原理图驱动布局
Ansys Lumerical的光子集成电路模拟器验证多模式、双向和多通道pic。
- 层次原理图编辑器
- 电路求解中的频域分析
- 瞬态样本和块模式模拟器
- 多模式、多通道支持
- 用于激光和系统建模的PIC元素库
- 模拟自热对半导体激光器性能的影响
- 与Virtuoso, Siemens EDA和KLayout的集成
功能
Ansys Lumerical的光子学仿真和设计能力使工程师能够建模纳米光子学器件、电路、过程和材料。
- 电路级仿真
- 纳米光子级仿真
- 具有后处理功能的3D CAD环境
- 此后工作流
- 自动化和脚本支持
- 激光工作流程
- 具有lumopt的光子逆设计
- 紧凑的模型生成
我们的解决方案无缝地结合在一起，因此您可以模拟光子学中最具挑战性的问题。工具之间灵活的互操作性使各种工作流程得以实现，将设备多物理和系统级光子电路模拟与第三方设计自动化和生产力工具相结合。
FDTD方法的精细调优实现在广泛的应用程序中提供了可靠、强大和可伸缩的求解器性能。集成设计环境提供脚本功能，高级后处理和优化例程，所有这些都允许您专注于您的设计。
带有可参数化仿真对象的3D CAD环境允许快速模型迭代。构建2D和3D模型，定义自定义曲面和体，并从标准CAD和IC布局格式导入几何图形。
Ansys的光子集成电路(PIC)仿真工具与业界领先的电子设计自动化(EDA)模拟器协同工作，以促进电子-光子集成系统的设计和实现。电子光子设计自动化(EPDA)工作流程可使用Virtuoso®和Siemens EDA。
跨多个Lumerical工具构建、运行和控制模拟，或与第三方应用程序交互。利用Lumerical脚本语言、Matlab或Python来使用数值分析、可视化、优化等。
Lumerical提供了一套集成的工具来建模许多常见的边缘发射激光拓扑结构。混合建模方法将物理仿真的精度与光子集成电路仿真的性能和规模相结合。设计和建模从soa和独立的FP和DFB激光器到复杂的外部腔DBR和环形或采样光栅游标激光器。
自动发现理想目标性能的最佳几何图形，并发现非直观几何图形，以优化性能，最小化面积和提高可制造性。使用shape-based或拓扑优化并通过模拟性能找到最佳解决方案。
支持流程的自定义设计流，使设计人员能够使用遵循代工规范的自定义被动和主动组件快速增强现有的pdk。
集成Ansys Speos搭建了纳米光子模拟和环境宏观尺度模拟之间的桥梁，使设计师能够考虑照明、视角和人类感知的影响。
演示工作流可用于显示和图像传感器应用程序。
OptiSLang可以在复杂的工作流程中驱动Lumerical产品，使设计师受益于其设计优化和灵敏度分析能力。
演示工作流可用于显示和调制器应用程序。
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